finding a better way
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… e fa la differenza! Contatti Rösler Italiana S.r.l. Via Elio Vittorini 10/12 20049 Concorezzo MILANO, ITALIA Tel.: +39 039/611521 Fax: +39 039/6115232 E-Mail: [email protected] www.rosler.it Contattaci per scoprire come le superfici ISF® possono dare un valore aggiunto ai prodotti! Dopo il processo ISF® N° pubbl. 230.4 i - Gennaio 2009 - La Società si riserva variazioni www.rosler.it Prima del processo ISF® finding a better way Processo di Superfinitura Isotropica (ISF ®) I processi chimicamente accelerati consentono di ottenere superfici con valori di rugosità inferiori a Ra = 0.02 µm (Ra = 0.8 µinch), Rz = 0.2 µm (Rz = 8 µinch) Partnership vincente! Come funziona il processo ISF®? … in che modo? Il Gruppo Rösler e REM Chemicals, Inc., leader nei processi di finitura in massa e nei processi chimicamente accelerati hanno unito la loro conoscenza ed esperienza per rendere accessibili i processi ISF® ad un più ampio numero di utenti. ➡ Per quali applicazioni sono indicati i processi ISF ®? acciai al carbonio e acciai alto-legati ➡ acciai inossidabili ➡ titanio, zinco, ecc. Applicazioni tipiche ➡ componenti cambio per settore aerospaziale e automotive ➡ componenti per motori da competizione (alberi a camme, punterie) ➡ parti per cuscinetti (guide, rulli) ➡ componenti per turbine energetiche e aerospaziali (pale, dischi) ➡ utensili, impianti medicali, strumenti chirurgici riducendo la rumorosità in esercizio, i surriscaldamenti per attriti e usura, il fabbisogno energetico e i costi operativi ➡ diminuendo gli interventi di manutenzione e aumentando la vita utile del componente ➡ facilitando la progettazione di componenti leggeri measurement-conditions measurement-cond. tracing pin type / measuring range / measured section/ speed / cut off filter / measured values / R- TK50 3200 µ" 0.060 " 0.006 "/sec 0.010 " ISO 11562(M 8000 parameter Ra Rmax Rk Rsk Rvk Rpk Rz 19.12 µin 129.65 µin 62.60 µin -0.321 32.36 µin 16.06 µin 117.65 µin Rmr01(0.100µ") Rmr02(0.200µ") Rmr03(0.500µ") Rmr04(1.000µ") Rmr05(1.200µ") Rmr06(2.000µ") Rmr01(50.0 %) Rmr02(60.0 %) Rmr03(75.0 %) Rmr04(80.0 %) Rmr05(90.0 %) Rmr06(100.0 %) 5.1 % 5.1 % 5.4 % 5.6 % 5.8 % 6.5 % 35.83 µin 42.13 µin 51.97 µin 55.91 µin 66.93 µin 110.24 µin Filter ISO 11562(M1) Lc = 0.010 " 50.0 0.0 Materiali ➡ Le superfici ISF® migliorano le performance dei pezzi… Il processo ISF® brevettato (finitura in massa chimicamente accelerata) si fonda su principi collaudati della finitura in massa. Una finitura che convince [µ"] -50.0 Taster TK50 Lt = 0.060 " Vt = 0.006 "/sec ® Il prodotto reattivo ISF genera un sottile strato di ossido (strato di conversione) sulla superficie del pezzo. Speciali media non abrasivi rimuovono il film dalla superficie. ➡ rugosità superficiali inferiori a Ra = 0.02 μm e Rz = 0.2 μm (Ra = 0.8 μinch, Rz = 8 μinch) ➡ aumento della capacità di carico ➡ mantenimento della geometria del pezzo ➡ superfici esenti da particelle contaminanti ➡ I picchi del profilo caratterizzante la superficie vengono rimossi, senza che il metallo venga asportato nelle valli. Ciò livella e liscia la superficie fino a rugosità inferiori a Ra = 0.02 µm, Rz = 0.2 µm. superfici da satinate a estremamente lucide Rugosità superficiale prima del processo ISF® measurement-conditions measurement-cond. tracing pin type / measuring range / measured section/ speed / cut off filter / measured values / R- TK50 3200 µ" 0.060 " 0.006 "/sec 0.010 " ISO 11562(M 8000 parameter Ra Rmax Rk Rsk Rvk Rpk Rz 1.11 µin 16.34 µin 3.54 µin -0.964 3.94 µin 3.20 µin 13.19 µin Rmr01(0.100µ") Rmr02(0.200µ") Rmr03(0.500µ") Rmr04(1.000µ") Rmr05(1.200µ") Rmr06(2.000µ") Rmr01(50.0 %) Rmr02(60.0 %) Rmr03(75.0 %) Rmr04(80.0 %) Rmr05(90.0 %) Rmr06(100.0 %) 6.0 % 6.0 % 7.4 % 10.9 % 15.4 % 33.5 % 2.76 µin 2.76 µin 3.54 µin 3.54 µin 3.94 µin 14.57 µin Filter ISO 11562(M1) Lc = 0.010 " 50.0 Il processo ISF® è seguito da una fase di lucidatura per asportare definitivamente lo strato di conversione e dare alla superficie un aspetto lucente. 0.0 [µ"] -50.0 Taster TK50 Lt = 0.060 " Vt = 0.006 "/sec Rugosità superficiale dopo il processo ISF® 0.060