05 fotoemissione - Dipartimento di Fisica
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XPS o ESCA Spettroscopie di fotoemissione UPS Spettroscopie di soglia (NEXAFS, APS etc…) • Il principio fisico della fotoemissione. • Come si acquisiscono spettri di fotoemissione: le sorgenti e l’analizzatore. • Analisi semi-quantitativa. • Esempi e tecniche di misura. Tecniche spettroscopiche Electron in Electron out Photon out HREELS eAES Inv. photoemission eSXAPS eSOLID Photon in XPS UPS EXAFS hν e- hν SOLID IRAS FTIR SOLID hν hν SOLID Il cammino libero medio degli elettroni scatterati inelasticamente da un materiale ha un minimo a ~100 eV. Le spettroscopie elettroniche che lavorano attorno a questa energia sono estremamente sensibili alla superficie. Eccitazione di particella singola Eccitazione del plasmone Photoemission Spectroscopy : the ideal picture Single Particle Scheme of Energy Levels Ekin = hω − Eb − Φ F Many Particle Scheme: Total Energies E f (N − 1) + Ekin − Ei (N ) = hω Ekin = Final State Kinetic Energy Φ = Work Function EbF(k) = Binding Energy of the k-th Initial State Photoemission Spectroscopy Adiabatic vs. Sudden Approximation Approx. ADIABATICA (ideale): Il processo e’ lento e il sistema (atomo isolato o solido) ha il tempo di raggiungere uno stato di equilibrio. SUDDEN Approx. (realistica): Il processo di fotoionizzazionefotoemissione e’ veloce cosicche’ lo stato finale puo’ avere elettroni in stati eccitati legati (shake-up) o nel continuo di stati non legati (shake-off). Cio’ avviene a spese dell’energia cinetica trasferita al fotoelettrone. Photoemission Spectroscopy How real spectra look like: Primary and Secondary Electrons Photoemission Spectroscopy How single-particle and manyparticle mechanisms are reflected in a photoemission spectrum Il fotone assorbito puo’ causare: a) Eccitazione diretta di un elettrone di core; b) Eccitazione diretta di un elettrone di valenza; c) Processo Auger; d) Processi anelastici (eccitazione di plasmoni e produzione di elettroni secondari). L’insieme dei processi anelastici determina la forma asimmetrica dei picchi XPS (high Eb tail) Photoemission Spectroscopy: Photon Sources Standard X-ray source Standard monochromator for X-ray source Ultra-violet photoemission spectroscopy A Standard UV Discharge Lamp Typical experimental setup Hemispherical Analyzer of Electron Kinetic Energy with Entrance Optics Designed for Lateral Resolution X rays UV rays The photoemission process is modelled by the Three-Step Model of Photoemission in Solids •Photon Absorption - Photoionization •Optical Absorption Machinery •Selection Rules •Electron Propagation within the Solid •Inelastic Mean Free Path [λ(Ekin)] •Electron Escape from the Solid •Refractive Effects at the Surface (for low Ekin electrons) •Collection of photoemitted electrons XPS as a core level spectroscopy Analisi chimica quantitativa delle superfici. Quanto e’ sensibile? Qual’e’ la concentrazione minima di un elemento che puo’ essere rivelata? Quanto facilmente questa tecnica puo’ essere resa quantitativa? E quanto quantitativa? Un elemento fondamentale per rispondere a queste domande e’ la sezione d’urto di fotoionizzazione per differenti livelli energetici dei diversi elementi. • One-particle approach • Electromagnetic Field-Matter Interaction • Semi-Classical Treatment of the Electromagnetic Field • Quantum Treatment of the Solid 2 1 r e r H= p − A + eϕ + V 2me c Adoperando opportuni accorgimenti analisi quantitative degli spettri XPS sono possibili e l’accuratezza raggiunta puo’ essere del 5%-10%. r pr Electron momentum A Vector potential ϕ Scalar potential H Hamiltonian V Potential energy Phoionization Cross Sections for Free Atoms vs. Photon Energy (Yeh and Lindau) Il minimo di Cooper si osserva per stati che presentano un nodo nella funzione d’onda radiale. Quando si usa una sorgente X “tunabile” puo’ essere vantaggioso usare misurare al minimo di Cooper per sopprimente un segnale intenso e vedere meglio la fotoemissione da altri livelli sovrapposti. Photoemission Spectroscopy: semi-quantitative analysis Once the photon flux φ is given, the photoelectron current Ii of the (nl) orbital of the i-th atomic species is approximately given by I i (nl ) = Ci λ (E kin )φ (hω )σ nl (hω )T (E kin ) Where Ci λ σnl T Atomic Concentration of the i-th species Escape Depth Orbital Cross Section Instrumental Efficiency Once the efficiency of detection of an atomic species is calibrated via the sensitivity factors one gets Ii si Ci = Ii ∑s i i Where Ci si Ii Atomic Concentration of the i-th species Orbital Sensitivity Factor of the i-th species Spectral Intensity Related to the i-th species X-RAY Photoemission Spectroscopy Elemental Sensitivity via Core Level Binding Energies Chemical Environment Sensitivity via Core Level Chemical Shift Quantitative Evaluation via Core Level Intensity Analysis & Cross Section Evaluation Access to Many Body Realm via Spectral Line Shape Analysis XPS - Alcuni esempi: Core Levels and Core level shift Wide XPS spectrum of graphite (C) C(1s) region SENSIBILITA’ CHIMICA The singlet C 1s line is characterized by: 1) A finite width, reflecting instrumental resolution, lifetime broadening and other many-body effects. 2) A specific binding energy which reflects the specific atomic species (C) in a specific chemical environment (core level shift). Il riferimento per determinare con precisione Eb e ∆Eb dovrebbe essere il livello di vuoto (sensibile ai cambiamenti di funzione lavoro in corrispondenza delle variazioni dello stato della superficie). Per semplicita’ si prende spesso il livello di Fermi, contenuto nello spettro XPS. XPS: Core Levels and Spin-Orbit Splitting Quantum Numbers j Total Angular Momentum l Orbital Angular Momentum s Spin Angular Momentum j= l+s p-symmetry state l=1 s = ±1/2 Degeneracy = |2j+1| XPS - Alcuni esempi: Core Levels and Core level shifts Si(100) ossidato in O2: The Si 2p line is characterized by the occurrence of 5 chemically distinct components which reflect different chemical states of the Si atoms at the interface. XPS - Alcuni esempi: Core Levels and Core level shift Si 2p3/2 Core level shift rispetto al Si bulk per: a) Films di diverso spessore cresciuti su Si(100); b) Films di 5 Å cresciuti su superfici diverse. XPS - Alcuni esempi: Core Levels and Core level shift Photoemission Spectroscopy: Surface Core Level Shifts Surface sensitivity is achieved by exploiting the inelastic mean free path vs. hν. Sotto soglia: alta prob. di penetrazione vedo fotoelettroni di bulk Al minimo della prob. di penetrazione massimizzo % elettroni di superficie. Background Subtraction in Core Level Photemission Spectra 1) The yellow areas correspond in principle to the primary photoelectrons 2) The case of Shirley base-line corresponds to the integral line of the pristine spectrum. Mechanisms Governing the Linewidth and Lineasymmetry in Photoemission Spectroscopy How the Instrumental Resolution can be determined by measuring the Fermi Edge of a Metallic Sample Ag 4d-related manyfold Ag 5(sp)-related manyfold Photoemission Spectroscopy: Valence Band States Any valence band spectrum brings altogether contributions related to differing atomic sites and orbital symmetry. Thereby, one has to properly design ad hoc experiments aiming at disentangling the various spectral components. Cooper Minimum Photoemission and Resonant Photoemission are two examples of such ad hoc experiments. Cooper Minimum Photoemission Possible when one of the valence band orbital shows a Cooper minimum in the photoionization cross section Cooper minimum in the Pt 5d cross section A joint analysis of VB photoemission spectra taken at and off the Cooper minimum enables to disentangle the differing site- and orbital-specific contributions. Pt 5d anti-bonding Pt 5d non-bonding Pt 5d bonding The Pt 5d and Si 3p cross sections are comparable Valence band photoemission Usually excitation sources with less than 150 eV are employed (UV lamp or synchrotron radiation) Ultimate resolution: ~15 meV with a conventional UV lamp. Small integration in k// so that it is possible to measure the photoemision signal from a specific part of the Brillouin zone. The valence band spectrum is characterised much better than with X-rays. UPS information: Measurement of the valence band states of a surface (ARUPS). Investigation of bands and molecular orbitals of the adsorbates. Angle Resolved UPS Mapping of the valence band states vs wavevector. La limitata integrazione in k// permette di spostarsi con continuita’ da un estremo all’altro della BZ, misurando sperimentalmente la struttura a bande nel range di energia consentito. Stati di volume e stati di superficie possono essere differenziati a) per confronto con previsioni teoriche; b) per il loro diverso comportamento rispetto allo adsorbimento di gas. Stati di volume e stati di superficie possono essere differenziati a) per confronto con previsioni teoriche; b) per il loro diverso comportamento rispetto ala presenza di adsorbati UPS in the study of adsorbed molecules Chemisorbed C6H6 Condensed C6H6 Il confronto fra lo spettro del benzene chemisorbito su Ni(111) e lo spettro del benzene condensato sulla stessa superficie (fisisorbito quindi non legato chimicamente alla superficie), mostra: a) La presenza di almeno tre strutture corrispondenti agli orbitali molecolari; b) Uno shift dell’orbitale π verso energie piu’ negative per la fase chemisorbita, ad indicare che l’interazione con la superficie avviene essenzialmente tramite questo orbitale. Gas-phase C6H6 Le assegnazioni dei picchi corrispondenti ad adsorbati avvengono principalmente per confronto con previsioni teoriche o con dati disponibili per la fase gassosa o per adsorbimento su altre superfici (sistemi gia’ noti). Spettroscopie di soglia Nell’XPS l’enegia dei fotoni incidenti, cioe’ della sorgente di eccitazione, puo’ essere anche parecchio superiore alla soglia di fotoionizzazione. Lavorando con sorgenti tunabili (sincrotrone) di solito si sceglie l’energia dei fotoni in modo da massimizzare la sezione d’urto di fotoionizzazione e la sensibilita’ alla superficie. Alternativamente, si possono indagare i livelli di core andando a cercare la loro soglia di fotoionizzazione mediante una sorgente di eccitazione ad energia variabile. Il superamento della soglia di ionizzazione verra’ rivelato dalla riduzione del flusso del fascio incidente o, piu’ comunemente, dall’emissione di fotoni o elettroni Auger associati al riempimento delle buche create. Ci sono varie tecniche, che si differenziano fra loro a seconda del metodo di rivelazione utilizzato. Esse vengono raggruppate generalmente sotto il nome di APS (Appearance Potential Spectroscopy). La sorgente di eccitazione (50 – diversi KeV) puo’ essere costituita da fotoni o da elettroni. Nel primo caso e’ necessario disporre di luce di sincrotrone. NEXAFS (Near Edge X-ray Adsorption Fine Structure) opp. XANES (X-ray Adsorption Near Edge Structure) E’ una spettroscopia di soglia in quanto investiga la regione energetica dal livello di soglia fino a circa 50 eV oltre, facendo una scansione in funzione dell’energia dei fotoni incidenti (sincrotrone). Fornisce importanti informazioni elettroniche e strutturali su solidi e adsorbati. Nelle misure NEXAFS vengono eccitati elettroni dai livelli di core a bande parzialmente occupate o vuote, quindi la posizione dei picchi dipende ANCHE dalla natura degli stati vuoti. Esempio di una molecola biatomica: Ammettendo che le regole di selezione permettano la transizione di un elettrone 1s in tutti gli stati vuoti, lo spettro NEXAFS presenta delle risonanze in corrispondenza di hν uguale all’energia di queste transizioni. Fig. 1. Schematic molecular potentials (bottom) and K-edge spectrum (top) of a diatomic molecule XY. The K-edge features are due to transitions from the ls core level of atom X to the following partially filled or unfilled molecular orbitals: π* orbitals in the bound state, Rydberg states at energies just below the Fermi level, and σ* resonances in the continuum state. (From St6hr [1]; copyright Springer-Verlag.) NEXAFS (Near Edge X-ray Adsorption Fine Structure) opp. XANES (X-ray Adsorption Near Edge Structure) E’ una spettroscopia di soglia in quanto investiga la regione energetica dal livello di soglia fino a circa 50 eV oltre, facendo una scansione in funzione dell’energia dei fotoni incidenti (sincrotrone). Le energie di soglia dipendono dal materiale. Elementi 2p non metalli: K-edge (1s2p)= 285 eV per C 400 eV per N 530 eV per O 685 eV per F Elementi 3p non metalli: K-edge (1s3p)= 1830 eV per Si 2140 eV per P 2470 ev per S 2830 eV per Cl L-edge (2p4s, 3d) nel range 100-270 eV. Fig. 1. Schematic molecular potentials (bottom) and K-edge spectrum (top) of a diatomic molecule XY. The K-edge features are due to transitions from the ls core level of atom X to the following partially filled or unfilled molecular orbitals: π* orbitals in the bound state, Rydberg states at energies just below the Fermi level, and σ* resonances in the continuum state. (From St6hr [1]; copyright Springer-Verlag.) Metalli 3d: LIII,II (2p 3d) <1000 eV K-egde (1s 4p) >4500 eV Metalli 4d: MIII,II (2p4d) <1000 eV K-edge (1s4p) >4500 eV X-ray absorption cross section r r 4π 2 h 2 e 2 1 σx = ξ ( E ) 〈φ f A ⋅ p φi 2 m hc hω 2 δ (hω + Ei − E f ) hω= incident photon energy e, m= charge and mass of electrons ξ(E)= energy density of the final state I<φf|A·p|φi>|=dipole matrix δ(hω+Ei-Ef)=delta function for the conservation of energy. La matrice descrive l’interazione dipolare fra il momento degli elettroni ed il campo elettrico. Tale interazione costituisce la base teorica delle misure NEXAFS dipendenti dalla polarizzazione, particolarmente utili per determinare l’orientamento di adsorbati presenti sulla superficie. La natura dell’interazione dipolare determina anche le regole di selezione valide nelle misure NEXAFS: la variazione di momento angolare fra stato iniziale e finale deve essere ∆l=±1. Experimental detection of X-ray absorption L’assorbimento di un fotone con energia ħω vicino alla risonanza comporta l’eccitazione di un elettrone da un livello di core ad uno stato vuoto. Le misure NEXAFS traggono informazione dal processo di annichilazione delle buche nei livelli di core cosi’ formate. Energia liberata nel processo di annichilazione Fluorescenza (ωf) Misurate dal NEXAFS Elettroni Auger (ωa) ωf+ ωa=1 Misura dell’intensita’ elettronica. Misura della fluorescenza. Simile alle spettroscopie Tecnica Photon-in /Photon-out, quindi: convenzionali: -Non necessita UHV -Profondita’ di penetrazione dei fotoni, permette di -HUV -Profondita’ di penetrazione limitata. differenziare proprieta’ di bulk e di superficie. -Insensibile al caricamento del campione. Ma…..piu’ complicato misurare soglie nella regione dei raggi X molli. Experimental detection of X-ray absorption In NEXAFS the final state of the photoelectron may be a bound state such as an exciton. Measuring fluorescent photons or Auger electrons allows to tune the sensitivity of the technique. The signal corresponds to the sum over all possible final states of the photoelectrons, meaning that what NEXAFS measures is the total joint density of states of the initial core level with all final states, which are consistent with the conservation rules. When the x-ray photon energy resonantly connects a core level with a narrow final state in a solid, such as an exciton, readily identifiable characteristic peaks will appear in the spectrum. These narrow characteristic spectral peaks give the NEXAFS technique a lot of its analytical power as illustrated by the B 1s π* exciton shown below. The great power of NEXAFS derives from its elemental specificity. Because the various elements have different core level energies, NEXAFS permits extraction of the signal from a surface monolayer or even a single buried layer in the presence of a huge background signal. Experimental detection of X-ray absorption Comparing fluorecence and electron yield K-edge of O in 50 Å NiO(100)/Ni(100) The peak positions and the relative intensities of the O K-edge features are identical in the two measurements. The NEXAFS features labeled A, B and C are assigned to the one-electron transition to the 3eg, 3a1g and 4t1u orbitals, respectively. The peaks labeled B* and C* are related to multielectron configuration interactions. Comparing fluorecence and electron yield: the information you can get. NiO/Ni(100) Preparation at 300 K followed by annealing to T=800 K Flourescence NiO clusters + c(2×2) O chemisorbed phase; the O signal decreases in AES or XPS. Such decrease can originate either because of the formation of thicker NiO(100) clusters or by diffusion of oxygen deep into the metal bulk. Which of the two? Electron yield NEXAFS: The fluorescence yield remains unchanged after annealing to 800 K while the electron yield decreases. Oxygen remains near the surface region (mean free path of the O K-edge photons ∼ 2000 Å). The thickness of the O containing region is larger than the electron escape depth (10-15 Å at 500 eV). NEXAFS: caratterizzazione di molecole K-edge for C POLIMERI NEXAFS spectra differ significantly even for rather similar molecular structures, so that they can be used as a fingerprint of each polymer. In many cases, enough is known about how chemical structure and X-ray absorption spectral features are related to allow one to identify unknown species from measured NEXAFS spectra. Individual spectral features, particularly the low energy π* features, are often sufficient for qualitative identification in reasonably well characterized systems, and they can serve as useful energies for selective chemical contrast in X-ray microscopy. Confronto con altre tecniche Ci sono altre tecniche che indagano la densita’ degli stati non occupati: a) Spettroscopie ottiche (difficile interpretazione). b) ISEELS (Inner Shell Electron Energy Loss Spectroscopy). Like NEXAFS, but the excitation source is a high energy, highly collimated electron beam. NOT POLARIZED! c) ARPS. Probes the dispersion of unoccupied states in k space, but analysis of the spectra is generally complicated. d) Inverse photoemission spectroscopy. Electron in – photon out technique. Probe of the DOS of all unoccupied states. e) APS. Electron decelerated into an empty state + simoulteneous excitation of a core electron to another empty state. Difficult interpretation.