SUSANNA PICCIRILLO CURRICULUM SCIENTIFICO La Dr

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SUSANNA PICCIRILLO CURRICULUM SCIENTIFICO La Dr
SUSANNA PICCIRILLO
CURRICULUM SCIENTIFICO
La Dr. Susanna Piccirillo è nata a Roma il 2-3-1962. Si è laureata in Chimica
presso l'Università degli Studi di Roma La Sapienza nel 1988 con votazione
110/110 e lode. E’ ricercatore universitario (r.d. CHIM03) presso l’Università di
Roma Tor Vergata dal 1996. Ha svolto attività di ricerca presso le seguenti
istituzioni:
1988-1989 ENEA Frascati - contratto per attività di ricerca
1989-1990 Freie Universität di Berlino - borsa di studio
1990-1991 CNR di Tito Scalo (Pz) - borsa di studio
1991-1994 Università di Roma La Sapienza - Dottorato di Ricerca in Scienze
Chimiche
1994-1995 Post dottorato - Universitè de Paris Sud – borsa di studio post
dottorato
1995-1996 CNR di Tito Scalo (Pz) - Ricercatore a tempo determinato
L’attività scientifica della Dr. Susanna Piccirillo è documentata da oltre 85
pubblicazioni su riviste internazionali e 1 brevetto e riguarda principalmente le
seguenti tematiche.:
• Processi di assorbimento e dissociazione di molecole poliatomiche indotti
da laser. Sintesi e caratterizzazione di polveri nanometriche assistita da
laser. Spettroscopia CARS (Coherent Antistokes Raman Spectroscopy)
per il controllo del processo di sintesi.
• Spettroscopia laser R2PI-TOF (Resonant Two Photon Ionization-Time of
Flight) di molecole e cluster in fascio supersonico. Studio dei fattori che
governano i processi di riconoscimento molecolare e chirale e la reattività
in aggregati non covalentemente legati.
• Pulsed
Laser
Ablation
Deposition
(PLAD).
Caratterizzazione
spettroscopica e spettrometria di massa degli intermedi. Sintesi di film
sottili di semi e superconduttori e di carbonio amorfo. Ha progettato e
messo a punto apparati PLAD (anche accoppiati a fascio supersonico)
presso il Dipartimento di Chimica e il Dipartimento di
Energetica
dell’Università di Roma La Sapienza e recentemente presso il
Dipartimento di afferenza dell’Università di Roma Tor Vergata.
• Deposizione chimica in fase vapore HFCVD (Hot Filament Chemical
Vapour Deposition) e caratterizzazione di materiali a base carbonio,
principalmente film compositi a base diamante e nanotubi di carbonio.