SUSANNA PICCIRILLO CURRICULUM SCIENTIFICO La Dr
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SUSANNA PICCIRILLO CURRICULUM SCIENTIFICO La Dr. Susanna Piccirillo è nata a Roma il 2-3-1962. Si è laureata in Chimica presso l'Università degli Studi di Roma La Sapienza nel 1988 con votazione 110/110 e lode. E’ ricercatore universitario (r.d. CHIM03) presso l’Università di Roma Tor Vergata dal 1996. Ha svolto attività di ricerca presso le seguenti istituzioni: 1988-1989 ENEA Frascati - contratto per attività di ricerca 1989-1990 Freie Universität di Berlino - borsa di studio 1990-1991 CNR di Tito Scalo (Pz) - borsa di studio 1991-1994 Università di Roma La Sapienza - Dottorato di Ricerca in Scienze Chimiche 1994-1995 Post dottorato - Universitè de Paris Sud – borsa di studio post dottorato 1995-1996 CNR di Tito Scalo (Pz) - Ricercatore a tempo determinato L’attività scientifica della Dr. Susanna Piccirillo è documentata da oltre 85 pubblicazioni su riviste internazionali e 1 brevetto e riguarda principalmente le seguenti tematiche.: • Processi di assorbimento e dissociazione di molecole poliatomiche indotti da laser. Sintesi e caratterizzazione di polveri nanometriche assistita da laser. Spettroscopia CARS (Coherent Antistokes Raman Spectroscopy) per il controllo del processo di sintesi. • Spettroscopia laser R2PI-TOF (Resonant Two Photon Ionization-Time of Flight) di molecole e cluster in fascio supersonico. Studio dei fattori che governano i processi di riconoscimento molecolare e chirale e la reattività in aggregati non covalentemente legati. • Pulsed Laser Ablation Deposition (PLAD). Caratterizzazione spettroscopica e spettrometria di massa degli intermedi. Sintesi di film sottili di semi e superconduttori e di carbonio amorfo. Ha progettato e messo a punto apparati PLAD (anche accoppiati a fascio supersonico) presso il Dipartimento di Chimica e il Dipartimento di Energetica dell’Università di Roma La Sapienza e recentemente presso il Dipartimento di afferenza dell’Università di Roma Tor Vergata. • Deposizione chimica in fase vapore HFCVD (Hot Filament Chemical Vapour Deposition) e caratterizzazione di materiali a base carbonio, principalmente film compositi a base diamante e nanotubi di carbonio.